半导体制造中使用的电子特种气体（如高纯氩气、氮气、氦气）是晶圆制造、光刻工艺的核心材料，其纯度（≥99.9999%）与杂质控制直接影响芯片良率。检测范围覆盖气体生产、纯化、管道输送全流程，涉及超纯气体（6N 级）与特种工艺气体（如 NF₃、CF₄）。
检测标准遵循 SEMI E49《电子级气体杂质浓度规范》与 GB/T 14604-2008《电子工业用气体 氮气》，规定氧气（O₂）≤0.1ppm、水分（H₂O）≤1ppm、颗粒度（≥0.1μm）≤5 个 / L，金属离子（如 Na⁺、K⁺）≤1ppb。
检测项目聚焦痕量污染物与物理指标：
纯度与化学杂质：
主体成分：热导气相色谱法（TCD）测定氩气纯度，扣除氧、氮、二氧化碳等杂质总和；
痕量杂质：质谱法（MS）检测 NF₃中的氟气（F₂）残留（≤0.5ppm），电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）测定金属离子。
颗粒度与洁净度：
激光尘埃粒子计数器：在线监测管道内≥0.1μm 颗粒，超洁净环境要求≤10 个 /m³；
表面粗糙度检测：原子力显微镜（AFM）评估气体阀门内壁洁净度，防止颗粒吸附。
安全性指标：
腐蚀性杂质：微库仑法测定电子特气中硫、氯含量（如 Cl⁻≤0.1ppm），避免蚀刻设备腐蚀。
检测方法融合高精度分析技术：
气相色谱 - 质谱联用（GC-MS）：一次进样分离 20 种以上杂质，检测限达 ppb 级，适用于 CF₄等复杂组分分析；
激光散射法：实时监测气体输送过程中的颗粒动态，搭配自动反吹系统确保数据可靠性；
低温冷凝富集技术：对液氩中的痕量水分进行低温（-196℃）富集，避免气化过程中损失。
百检检测中心在半导体电子特气检测领域具备 SEMI 认证能力，合作实验室配备美国安捷伦 7200 ICP-MS、德国 Palas 颗粒计数器，可承接晶圆厂高纯气体入场检测、管道洁净度验证等项目。检测费用根据气体纯度等级与检测项目定价，低于半导体检测行业平均水平 15%，数据可直接用于工艺参数优化。如需电子特气检测服务，欢迎联系百检获取符合 SEMI 标准的检测方案。
